北京
公司产品介绍
中标情况
当前SSB i-line12寸 分辨率最高280nm 和XT400参数齐平。
KrF SSC800 和XT860齐平。分辨率 110nm WPH300+版本在验证。
SSA800 浸没式scanner 分辨率38nm（可以达到，但是不一定是稳定曝光的分辨率范围），套刻精度对标2000i系统。但是实际效果验证之后才知道。
按照flow，国内用2050i的光刻机（MMO 1.9nm）做的600平方毫米的AI芯片良率才是个30%左右。
参考伍强老师论文等资料，在使用自对准互联技术、自对准多重模板技术、多重曝光技术之后，复杂mask的金属层，通孔层可以做到的pitch极限可能在三次曝光的pitch，比如193i稳定工艺是>80nm；极限应该>80/3=26nm以上。对于26nm的孔洞，MMO如果是2nm，那么三次LE之后，累计偏差可能在6nm，如果考虑是xy两个方向都有偏差，上下两层的接触面积会减少41%左右，这个是灾难的。考虑M0、M1这些较窄的via都比较小，仅这两层，性能就会减少到原来的35%。
这就是套刻如何影响良率的原因。
所以在保证良率的前提下，SSA800的工艺窗口最好就限制在pitch 90以上。这样的话，如果MMO套刻还可以控制在3nm以内，甚至都可以用于N+1工艺的量产，以及N+2工艺的研发验证。
目前了解到就是这么多，我猜测 SSA稳定量产的分辨率应该在45nm，MMO 3.5nm水平。
其他不相关信息：
整体国产化率70%多
光源系统由科益虹源、福晶科技提供，科益虹源做整个光源系统的系统集成，其中的光源器由福晶科技提供。
物镜供应商是国望光学。奥普光电是光源的一个激光器，但它是物镜系统中非核心的东西，整个物镜系统由国望光学组装。
茂莱光学做镜片，物镜和光源系统中很多系统都用到镜片，一台光刻机中有20个。光刻机中的镜头采购海外的蔡司占30%，70%是茂来的，茂莱份额很大。
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