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国家知识产权局信息显示，希沃杜克公司申请一项名为“用于气体绝缘中压或高压设备的气密接头”的专利，公开号CN121986423A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本公开涉及一种用于气体绝缘中压或高压设备的气密接头（1）、该设备以及一种制造与组装气密接头的方法。所述气密接头（1）包括导体（2），所述导体（2）包括围绕一个公共中心枢轴点（r）彼此枢转布置的第一和第二导体部（2a，2b）；壳体（3），所述壳体（3）包括围绕所述公共中心枢轴点（r）彼此枢转布置的第一和第二壳体部（3a，3b）；以及密封机构（4），所述密封机构（4）布置在第一与第二壳体部（3a，3b）之间，并在二者之间提供密封，使得第一和第二壳体部分（3a，3b）之间的气体泄漏路径（L）在第一与第二壳体部（3a，3b）之间的多种可能取向上以气密方式被密封。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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