“光刻机之父”林本坚：中国现有设备能造出5nm芯片，美国已承认

2023年，林本坚指着DUV光刻机说：“这玩意儿能造5纳米。”华盛顿没信，转头锁死高端设备，以为掐住了中国脖子。

两年后，美国半导体协会一份报告让白宫沉默：中国真做到了。这记耳光，打的不是技术，是西方“离了我你就不行”的傲慢。

那个“不想变通”的老头，说了句实话

如果林本坚是个听话的人，今天的芯片世界可能还停在干式光刻时代。

1942年出生，在IBM干了22年，又在台积电当了研发副总。这老头一辈子就干一件事：跟光的波长死磕。当年全行业都在搞157纳米干式光刻，烧了几十亿美元，路越走越窄。

只有林本坚，盯着一杯水发呆。

他提出“浸润式光刻”：在镜头和晶圆之间加层水，把193纳米的光波长折射成134纳米。ASML信了，尼康没信。结果ASML成了霸主，尼康成了路人。这就是林本坚的“顶级理解”。

2023年，他又说了句“逆耳忠言”。

他在接受采访时把账算得明明白白：EUV（极紫外光刻机）确实好，波长13.5纳米，一次曝光就能搞定。但没有EUV，日子就不过了？

并不是。

他指出了另一条路：多重曝光。

原理极其粗暴：既然光的波长不够短，那就多刻几次。就像用粗笔画细线，我不画一笔，我画两笔，中间留出的空白，就是我要的“细线”。

美国人听不进去。他们的逻辑是：EUV是由于ASML垄断的，ASML是听美国的，所以中国=0。

这是一种典型的“技术傲慢”。他们忘了，物理学没有国界，而逼上绝路的工程师，最擅长把“理论可行”变成“工程奇迹”。

林本坚当时就警告：“你们越封锁，越会逼着中国搞出自己的全套方案。”

没人信。直到华为Mate60的麒麟9000S出世，直到2025年中芯国际的生产线开始轰鸣。

那些嘲笑林本坚“老糊涂”的人，现在都沉默了。

笨办法，也是“杀人技”

没有EUV，怎么干5纳米？

答案藏在华为公开的CN117751427A号专利里，也藏在中芯国际那些日夜不息的机台里。

SAQP（自对准四重图案化）。

听着高大上，拆解开来，就是一种“极致的暴力美学”。

普通的DUV光刻机，极限分辨率是38纳米。要做到5纳米，得把光刻、蚀刻、沉积的步骤，重复四次。

第一刀，刻出骨架；第二刀，长出侧壁；第三刀，去掉骨架；第四刀，再修细节。

这就像在米粒上雕花，不仅要雕，还得在同一个位置连雕四刀，刀刀不能偏。

有多难？

2016年，芯片巨头英特尔试图用类似的“多重曝光”技术冲击10纳米（Cannon Lake项目）。结果呢？良率低到发指，功耗高到爆炸，项目直接流产。英特尔由此失去了制程领先的王座。

连英特尔都搞不定的事，美国人当然觉得中国搞不定。

但他们算漏了两点：良率的容忍度，和生存的渴望。

资料显示，中芯国际利用ASML的1980Di或2050i型DUV光刻机，硬是把SAQP工艺跑通了。

代价是惨重的。

成本暴涨40%。每一次曝光都是钱，四次曝光就是四倍的机时。一次流片的费用高达3亿元人民币。

良率只有50%左右。相比台积电90%以上的成熟良率，这一半的芯片出来就是废品。

在商业逻辑里，这是赔本买卖，是“自杀”。但在生存逻辑里，这是“唯一的路”。

对于军用芯片、服务器芯片，乃至高端手机芯片，“有没有”是0和1的区别，而“贵不贵”只是0.1和0.2的区别。

只要能产出，哪怕是一半的良率，中国庞大的市场也能把成本摊平。

英特尔放弃，是因为它要赚钱；中国坚持，是因为由于我们要活命。

这就是林本坚看透的本质：技术难题可以用钱和人去堆，但战略封锁，只能靠头铁去撞。

美国承认的，不仅是芯片

2025年11月，靴子落地。

美国SIA的报告，与其说是“承认”，不如说是“止损”。

报告里写得明白：中国在没有EUV的情况下，利用DUV设备实现了5纳米量产，速度比ASML预期的快了整整18个月。

这18个月，是无数中国工程师在实验室里熬出来的，是用那3亿元一次的流片费烧出来的。

美国人为什么要承认？

因为瞒不住了。

市面上的产品不会撒谎。拆开手机，显微镜下一看，电路图清清楚楚。是不是5纳米，是不是SAQP工艺，行家一眼便知。

这也意味着，美国精心构筑的“EUV防线”，被中国从侧翼绕过去了。

他们原本的剧本是：封锁EUV -> 中国止步7nm -> 差距拉大 -> 产业窒息。 现在的剧本是：封锁EUV -> 中国死磕DUV -> 5nm搞定 -> 产业链全线去美化。

更讽刺的是，因为使用了SAQP工艺，中国对光刻胶、蚀刻机、沉积设备的需求量暴增。这些环节，正在疯狂地进行国产替代。

林本坚在2023年还说过一句话：“美国不卖最好的设备，中国就会把次一级的设备用到极致，直到造出最好的设备。”

现在，这句话应验了。

虽然5纳米还不是最顶尖的3纳米、2纳米，虽然成本还高，良率还低。

但那又怎样？

原子弹刚造出来的时候，也不是为了好用，是为了“我有”。

从这一刻起，全球半导体格局的底层逻辑变了。以前是“谁有EUV谁是爹”，现在是“谁能把手里这家伙什用到极限，谁就有话语权”。

这不仅仅是一块芯片的突围，这是对西方技术迷信的一次祛魅。

林本坚没说错，中国没信邪，美国没拦住。

这就够了。

参考资料：

“光刻机之父”林本坚：中国现有设备能造出5nm芯片，美国已承认.趣说文娱.2025.11.08

华为四重曝光工艺专利公开，国产5nm芯片有希望了？.旺材芯片.2024.03.27

没有EUV光刻机，怎么做5nm芯片？.腾讯科技.2024.07.01

中芯国际用DUV光刻机量产5nm芯片？工程师揭秘“四重曝光”背后的极限工艺.2025.11.20

中国5纳米光刻技术获突破，有望打破荷兰技术垄断？.浙江省互联网产业联合会.2021.7.14

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