北京
国家知识产权局信息显示，安徽四象半导体材料科技有限公司申请一项名为“一种用于曲面电极表面化学抛光的系统及工艺”的专利，公开号CN122013325A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明提供一种用于曲面电极表面化学抛光的系统及工艺，涉及电极表面处理技术领域，其包括蚀刻槽，所述蚀刻槽顶部固定连接有U形支撑架，所述U形支撑架内顶部滑动配合有调节组件，所述蚀刻槽内底部固定安装有循环组件，所述U形支撑架上固定安装有两个限位架，两个所述限位架之间转动配合有旋转轴。通过循环叶片与曲面电极保持同步摆动，确保了蚀刻液液体循环过程中，曲面电极表面的浓度变化始终保持一致，避免因蚀刻液流向与曲面电极前后两侧，所造成的抛光曲面电极的不均匀性，保证了蚀刻液的流动性和曲面电极表面蚀刻液浓度的均匀性，提高了曲面电极的抛光效果。
天眼查资料显示，安徽四象半导体材料科技有限公司，成立于2022年，位于合肥市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本6947.2万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽四象半导体材料科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可13个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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