北京
国家知识产权局信息显示，上海原子启智半导体设备有限公司申请一项名为“一种半导体处理设备及其控制方法”的专利，公开号CN122003114A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体处理设备及其控制方法，涉及半导体制造技术领域。半导体处理设备包括腔体、气源及至少一进气阀组，腔体侧边缘设有多个环绕排布的进气孔，进气阀组包括多个与进气孔一一对应、独立可控的进气阀，各进气阀可独立控制对应进气孔的气路通断。在刻蚀工艺运行过程中，同一进气阀组内的部分进气阀与其余进气阀可执行不一致的开闭动作，使衬底周向各区域获得差异化的刻蚀量。本发明可针对衬底周向不同区域进行刻蚀量的调控，有效平抑衬底预存在的薄膜厚度不均缺陷，提升刻蚀后衬底各区域的特征形貌均匀性与半导体工艺良率。
天眼查资料显示，上海原子启智半导体设备有限公司，成立于2025年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1493.1645万人民币。通过天眼查大数据分析，上海原子启智半导体设备有限公司专利信息11条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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