北京
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“显示面板及显示装置”的专利，公开号CN122003034A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本申请公开了一种显示面板及显示装置中，第一金属层设置在衬底上，第一金属层包括多个间隔设置的第一栅极，第一栅极被配置为晶体管的底栅，在同一时段中相邻两个第一栅极之间具有电压差。第一栅极包括第一金属部和第二金属部，第二金属部设置在第一金属部远离衬底的一侧，第一金属部的材料为在标准氧化电位下于所述第一金属部的表面形成钝化膜的金属。本申请实施例通过设置第一金属部的材料为能在第一金属部的表面形成钝化层的金属，也即第一金属部的材料为自钝化金属，当第一金属部发生氧化使其表面形成钝化膜时，钝化膜可以降低第一金属部的内部金属被电化学氧化腐蚀的风险，提高薄膜晶体管的稳定性。
天眼查资料显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目520次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可385个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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