北京
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国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“多能级射线发生器和辐射成像设备”的专利，公开号CN121751456A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种多能级射线发生器，包括：微波功率源，配置成分时提供第一功率微波输出和第二功率微波输出；第一透射靶；以及第二反射靶。第一功率微波输出被用以加速电子束，经加速的第一电子束轰击并且透射第一透射靶产生第一射线，并且第二功率微波输出被用以加速电子束，经加速的第二电子束轰击第二反射靶产生第二射线。还提供辐射成像设备。
天眼查资料显示，同方威视技术股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析，同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目2739次，财产线索方面有商标信息331条，专利信息4235条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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