2023年5月23日,日本经济产业省突然发布了一项针对中国的出口管制细则,将23种半导体制造设备列入审查清单。这份管制文件里包含了清洗机、热处理设备、蚀刻工具、曝光设备等多个环节的关键装备,尤其是DUV光刻机,几乎成了“精准打击”的对象。
美国封锁的是EUV,不让中国搞最顶尖的芯片;而日本直接从45纳米卡起,一刀切断了中国现有产线的“命脉”。日本为什么要对中国“下死手”?它究竟是为了自身利益,还是甘当美国的“马前卒”?这场封锁背后,又会对全球半导体格局带来哪些深远的变化?
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2023年1月27日,美国、荷兰、日本三国在华盛顿达成一项半导体出口管制协议。这项协议的核心目标是限制中国获取先进制程的光刻设备与相关技术。其中,最狠的部分来自日本。3月31日,日本经济产业省迅速行动,修改了外汇法。
23种设备被列入出口审批清单,7月23日开始正式实施。审批流程从备案制变成逐案审查,耗时长、不确定性大,中国企业很难再顺利拿到设备。以前,中国芯片厂遇到设备故障,一个电话,日本工程师或零件很快就能送到。
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现在,维修申请一拖再拖,永远在“审查中”。一台价值几亿美元的DUV光刻机,就这样卡在一个小小的激光器模块上,变成了一台“昂贵的废铁”。比起美国封锁先进设备的“增量”,日本更狠的地方是——它要动的是“存量”。也就是那些已经在中国工厂里运转的设备,不让你继续用下去。
日本企业对中国的远程技术支持几乎完全中断。以前靠远程就能完成的软件升级、参数调试,现在都需要工程师上门。而日本企业又不批签证、不批服务,设备一出问题,维修时间无限拉长。
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良率下降,成本飙升,产线效率暴跌,巨额损失接踵而至。对芯片厂来说,良率哪怕下降1%,都是几百万美元的亏空。光刻胶,是封锁中的另一把“软刀子”。这是一种用于芯片图案转移的高端化学品,被称作半导体的“血液”。没有它,光刻机就像没墨水的打印机,再高端也毫无用处。
从2023年6月开始,日本信越化学以“原材料不稳定”为由,暂停对部分中国企业供应KrF光刻胶,打响了材料封锁的第一枪。JSR、东京应化等公司随后跟进,加长审批周期、提高出口门槛、要求签署极其苛刻的“最终用途”承诺书,甚至限制第三方转口。
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光刻胶不像光刻机那样可以长期囤货,保质期只有六个月,一旦断供,产线就得停。2025年,日本再次加码。
10月,日本新增一份“最终用户清单”,110家中国企业被列入限制名单。连用于芯片冷却的设备都被纳入管控范围。外媒评论:日本这套打法,不是点对点,而是全链条覆盖,从生产设备、关键零部件到耗材,一刀切断。
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这场封锁,让中国芯片厂每月885万片的晶圆生产能力面临巨大威胁。芯片企业被迫大量囤货,光刻胶价格一度飙涨30%,仍难挡“断供”的阴影。有外媒形容,中国芯片厂正处于“随时断炊”的焦虑中。
日本的狠手,也不是没有代价。尼康、东京威力科创等企业的财报显示,自2023年起,对华营收暴跌,股价剧烈波动。东京威力高管私下承认,“失去中国市场,等于断了一条腿。”
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JSR 2024年下半年对华营收下滑22%,TOK更是出现十年来首次亏损。日本光刻胶行业原本依赖中国市场占比超过53%,如今被迫减产、裁员。库存积压、胶体过期、客户流失,企业苦不堪言。
这场封锁,反而成了中国半导体产业转型的催化剂。2024年底,上海微电子成功向核心客户交付首台28纳米DUV浸没式光刻机样机。虽然还不如ASML、尼康的成熟产品稳定,但这标志着中国实现了从0到1的关键突破。
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2025年,SMEE持续推进,光刻机国产率达到85%,目标是年底前实现批量交付。华为东莞工厂开展压力测试,国产光刻机效率从2%提升至4.5%,进入试产阶段。EUV光刻机也进入样机测试阶段,精度追赶ASML,国产替代正从底部逐步爬升。
光刻胶领域同样迎来突破。南大光电的ArF光刻胶经由中芯国际验证,开始小批量供货,成功应用在14纳米及以上工艺的非关键层。晶瑞电材、北京科华的KrF光刻胶也逐步实现批量化供应,尽管与日本仍有差距,但已经能顶一部分“急用”。
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国产化率从2023年的25%,提升至2025年的近40%。背后,是中国政府强有力的支持。出台《“十四五”原材料工业发展规划》《新产业标准化工程实施方案》,为半导体材料企业提供“税收两免三减半”政策,研发支出大幅下降。
2024年起,国家大基金第三期专投光刻机、光刻胶等“卡脖子”项目,全年投入超过200亿元。苏州、无锡、合肥等地设立专项基金,地方政府也开始“砸钱”。
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人才,是另一个破局关键。高校增设半导体材料、微电子装备专业,企业与学校共建实训基地。让学生在学校就能接触真实设备,提前进入项目团队,打通“从课堂到车间”的人才通道。
同时,通过股权激励、科研奖金、住房补贴等方式,吸引海内外高端技术人才回流。面对封锁,中国不仅没有被打垮,反而在逆境中找到了自己的节奏。2025年9月,中国本土晶圆代工厂在成熟制程上的全球市场份额提升,成为全球产能扩张的关键力量。
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光刻胶产能扩张、光刻机国产化加速,中国半导体产业链正在重塑,逐步摆脱对外依赖。日本企业却陷入两难。一方面要配合政府政策,封锁中国市场;另一方面又得面对订单骤减、利润缩水的现实。信越化学库存堆积,JSR客户流失,日产量下降,企业压力山大。
2025年,日本政府不得不召开闭门会议,研究如何“修复”与中国的半导体贸易。外媒评论指出,日本这波“封机断胶”,确实给中国制造带来了不小的麻烦。但在“卡脖子”压力下,中国反而坚定了走自主创新的道路。从“造不如买”,到“造是唯一的出路”,中国产业界的认知彻底转变。
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华为、宁德时代等下游企业也开始向上游延伸,战略投资材料、设备企业,构建自己的供应链安全网。更深层次的影响,是全球半导体供应链的重组。日本的狠手,不仅伤了中国,也让自己面临“被替代”的风险。中国自研突破,意味着未来日本在全球市场的份额将被逐步蚕食。
美国、欧洲、印度虽有替代潜力,但基础设施、技术储备都难以填补中国留下的“大缺口”。中国的突围之路,不是空喊口号,而是一步一个脚印的技术积累。2025年,SMEE出货量达到500台,国产光刻机在国内市场的占有率超过90%。国产EUV原型机进入试产,精度、效率双双提升。
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国内材料厂商也逐步向高端靠拢,光刻胶、电子气体、掩膜版等领域实现关键替代。这场没有硝烟的技术战,日本下的是狠手,打的是“七寸”。但也正是这股狠劲,反而逼出了中国半导体产业的“硬骨头”。
日本对中国芯片产业的封锁,确实手段狠辣,影响深远。但中国并没有被压垮,反而借封锁之力,推动了技术自主的全面提速。这场对决的结局还远未到来,但中国已在这场科技博弈中,走出了属于自己的路。
信息来源:
[1]中国商务部回应日本更新出口管制“最终用户清单” 中国新闻网
[2]中国拿到论文也造不出EUV?日本光刻胶巨头JSR被批“傲慢” 观察者网
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