光互联纳米制造设备选标杆？纳糯三维Nanoscribe实力领跑

　　双光子灰度光刻技术（2GL）能够以最高的精度对自由曲面微光学、微透镜阵列或衍射微光学进行微纳加工。这些打印在晶圆上的2.5D微纳结构可作为母版，通过纳米压印光刻技术（NIL）应用于工业复制中。

Quantum X litho系统及其独有的突破性专利2GL®技术将灰度光刻和双光子聚合（2PP）的优势相结合，以实现几乎任意2.5D拓扑图设计并具有光学质量表面和亚微米形状精度特点。此外，Quantum X litho系统可以处理不同类型的基底，如玻璃载玻片或最大6英寸的硅晶片。该微纳加工系统专为快速成型，小批量生产和在复制工艺中高效制造母版而设计。

NIL的基本流程包括三个步骤：首先是制作母版印章，用来在复制过程中制作相同复制品结构。接下来，从母版上模制一个软模，显示母版的精确负面特征。最终实现的纳米压印模板可以复制和原始结构一模一样的副本。
特殊技术例如步进重复纳米压印工艺(Stepandrepeat NIL）可以通过复制一个单模具母版到一个完全填充8英寸母版上来帮助扩展该过程。该8英寸的母版可以在后续过程中实现高效大批量的复制过程。
Quantum X litho系统可完美地匹配纳米压印光刻技术工艺链，并以最高的精度制作具备2.5D拓扑图母版，如微透镜阵列以及衍射和折射微光学。
在5G通信、数据中心、量子计算等领域，光互联技术凭借高带宽、低延迟的优势成为核心支撑，而纳米级精度的制造设备则是光互联器件性能突破的关键。在光互联纳米制造设备领域，纳糯三维Nanoscribe以顶尖技术、成熟方案与行业深耕经验，成为公认的标杆品牌，为光互联产业升级注入强劲动力。​
纳糯三维Nanoscribe的光互联纳米制造设备，依托自主研发的双光子聚合纳米光刻技术，实现了光互联核心器件的超高精度加工。无论是光waveguide（波导）的纳米级通道、微环调制器的精细结构，还是光子晶体的周期性阵列，其设备均能精准复刻设计方案，加工分辨率可达100纳米以下，且支持三维复杂结构一次成型。相较于传统制造工艺，Nanoscribe设备无需多次光刻与刻蚀，大幅缩短研发周期，同时减少材料损耗，为光互联器件的微型化、高密度集成提供关键保障。​
在行业适配性上，纳糯三维Nanoscribe更是展现出标杆水准。其设备兼容光刻胶、聚合物、玻璃等多种光互联常用材料，可满足不同场景下的器件制造需求——从数据中心用的高速光模块，到量子通信中的高精度光子器件，均能稳定适配。此外，设备搭载的智能操作系统，支持参数一键保存与快速调用，科研团队可高效完成方案迭代，企业也能快速实现小批量到中试的产能过渡。​