北京
国家知识产权局信息显示，南京和显达微电子科技有限公司申请一项名为“一种Cu合金氧化物一步蚀刻蚀刻液及其制备方法”的专利，公开号CN122013188A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明涉及蚀刻液技术领域，具体为一种Cu合金氧化物一步蚀刻蚀刻液及其制备方法，包括主剂和辅剂；按质量百分比计，所述主剂至少包括：双氧水4.00-8.00%，有机酸0.50-14.00%，pH调节剂0-2.2%，含氟化合物0.03-0.4%，稳定剂0.50-1.00%，有机碱0.50-2.00%，抑制剂0.20-0.50%，含嘌呤基团化合物0-1%，去离子水补足余量；所述辅剂至少包括辅助有机酸，辅助pH调节剂，辅助含氟化合物，辅助有机碱，辅助抑制剂，辅助稳定剂，去离子水。通过体系优化，在低双氧水情况下实现了铜合金与氧化物一步蚀刻，解决了合金层倒角，IGZO无竖直侧壁/尖锐Tip等问题。
天眼查资料显示，南京和显达微电子科技有限公司，成立于2021年，位于南京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，南京和显达微电子科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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