北京
国家知识产权局信息显示，上海铭沣科技股份有限公司申请一项名为“一种基于深度学习的芯片表面缺陷检测方法及系统、计算机可读介质”的专利，公开号CN121998967A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于深度学习的芯片表面缺陷检测方法及系统、计算机可读介质，其中方法包含如下步骤：获取芯片的明场图像与暗场图像；将明场图像与暗场图像进行融合，生成融合图像；对融合图像中的芯片区域进行粗定位，得到芯片区域的外接矩形框；在外接矩形框内，对芯片边缘进行精确定位，得到芯片的精确区域；将精确区域划分为多个带重叠的网格图像块；对每个网格图像块进行缺陷检测，得到局部缺陷检测结果；将所有局部缺陷检测结果映射回原图坐标系，合并后输出芯片表面缺陷信息。本发明能够实现芯片表面缺陷的高精度、高鲁棒性自动检测，减少人工干预，提高AOI系统的配置效率与检测能力。
天眼查资料显示，上海铭沣科技股份有限公司，成立于2006年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本14500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海铭沣科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息80条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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