北京
国家知识产权局信息显示，山东华光光电子股份有限公司申请一项名为“一种实时调整晶圆与石墨基座间高度梯度的外延生长方法”的专利，公开号CN122013311A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及一种实时调整晶圆与石墨基座间高度梯度的外延生长方法，包括步骤：S1、在外延设备反应室的玻璃观察窗上方安装光学厚度分析系统；S2、首批晶圆每生长一定厚度的薄膜后，启动光学厚度分析系统，测量每个晶圆与石墨基座的高度梯度标准值；S3、下一批晶圆通过与步骤S2相同的方法测量每个晶圆与石墨基座的高度梯度测试值，测试过程中实时调整各个行星盘气流，从而调整每个高度梯度测试值与步骤S2对应的高度梯度标准值的差值；S4、后续每次重新放入一批晶圆进行外延薄膜生长，均按照步骤S3进行测试调整。本发明的方法能够实现晶圆平面的动态调整，抑制了晶圆顶面与石墨基座顶面的高度梯度增大的趋势。
天眼查资料显示，山东华光光电子股份有限公司，成立于1999年，位于济南市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6264.6666万人民币。通过天眼查大数据分析，山东华光光电子股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目604次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息808条，此外企业还拥有行政许可15个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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