无视美国禁令，继续向中国交付光刻机！合作共赢大于一己私利

美国从2018年起逐步加强半导体出口限制，针对先进光刻设备实施严格管制。2023年初，美国推动日本和荷兰加入三方协议，旨在禁止深紫外线光刻机向中国出口。这种举措源于美国对技术主导权的担忧，中国半导体领域的快速发展被视为潜在挑战。

到2025年，美国进一步撤销某些许可，如台积电向中国工厂运送工具的特殊授权将于年底到期。

这些措施旨在延缓中国产业升级，但实际执行中，日本和荷兰企业显示出一定灵活性，中国半导体设备进口总额在2024年达到385亿美元，2025年虽预计小幅降至380亿美元，但市场份额仍占全球20%。

日本尼康公司在光刻机市场长期积累经验，尽管面临外部压力，却选择加强与中国合作。早在2024年7月，尼康就推出新型氩氟浸没式光刻机，并在华积极推广。

这种设备支持7纳米工艺，与早期干式系统相比，通过液体介质提升光线折射率，显著提高图案分辨率，减少衍射干扰。

在实际生产中，这种进步让曝光时间缩短20%，适用于中端逻辑芯片制造。中国企业接收这些设备后，能快速融入生产线，从晶圆涂布到显影形成完整流程。

尼康的行动源于其历史定位，上世纪80年代，该公司一度主导全球市场，但后来份额下滑。如今，通过自主研发，尼康恢复竞争力，其7纳米设备在波长控制上更精确，使用193纳米光源结合浸没液，线宽缩小15%。

与中国企业对接时，尼康提供技术支持，包括参数调试和稳定性验证，这比过去单纯出口更注重应用反馈。中国市场作为全球最大芯片消费地，提供丰富场景，帮助尼康验证设备性能，推动从实验室原型到商用迭代。

荷兰ASML作为光刻机巨头，尽管设备依赖多国部件，受美国影响较大，但其深紫外线系统仍在2025年向中国交付。第三季度，中国占ASML销售额42%，价值超70亿美元，这些设备主要用于终端芯片生产，支持中国维持产业链完整性。

ASML高层多次表示，出口限制可能刺激中国加速自主创新，对全球行业无益。

ASML的交付过程体现技术自主性，其深紫外线扫描仪在分辨率上与日本设备形成互补。相比极紫外线系统需要真空环境和高维护成本，深紫外线更易操作，能源消耗低30%。中国工厂导入后，通过软件接口实现自动化，提升缺陷率控制10%。

与历史对比，ASML从依赖联盟转向市场导向，2025年预计净销售额增长15%，毛利率达52%，部分得益于中国订单。尽管荷兰政府计划2025年4月收紧出口措施，但当前交付已帮助中国填补技术空白，推动从进口向本土化转型。

东京电子作为日本企业，在涂胶显影设备上提供支持，这些装置在旋涂均匀性上优化，胶层厚度达纳米级，与手动调整不同，自动化程度高。中国集成后，生产线产量增长，满足汽车和消费电子需求。

这种设备与尼康光刻机结合，形成链条闭环，减少停机时间。

高通等公司也表达长期供应意愿，如向华为提供4G芯片，这与光刻交付呼应，形成多点支撑。中国半导体生态通过这些输入，增强韧性，从90纳米量产向更精细节点推进。尼康的浸没技术在图案叠加上进步显著，多层曝光适用于存储芯片，与单次方法不同，精度提升。

日本企业的独立路径源于过去经验，上世纪协议后，转向自研体系，如今提供灵活出口。佳能采用纳米压印技术，实现5纳米工艺，这种压印方式直接转移图案，模具寿命达百万次，成本降低25%。中国应用中，扩展材料兼容性，推动产业升级。

设备运输和安装强调精密，防震包装确保光学部件完整。校准阶段后，中国工程师掌握操作，实现本地维护。这种合作削弱了三国协议效力，促进中日技术交流。

对比荷兰路径，日本设备更易获取，维护周期短。ASML虽受限，但交付仍占重要份额。中国自研结合进口，缩小差距，如纳米压印机交付测试。

长远看，这种交付行动提升中国产业链自主能力，到2025年11月17日，ASML中国业务稳定，尼康在中国展会展示设备。中国通过创新和合作，逐步减少依赖，实现互利共赢。

到目前，中国设备进口虽小幅调整，但交付持续，产业链韧性增强。自主研发与国际合作并行，确保长期进步。

参考资料
ASML、尼康同时官宣新设备,光刻机市场火药味渐浓? 新浪财经