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金融界2024年12月3日消息，国家知识产权局信息显示，合肥京东方瑞晟科技有限公司申请一项名为“低反射膜、显示基板及其制备方法、显示装置”的专利，公开号 CN 119053171 A，申请日期为 2023 年 5 月。
专利摘要显示，本公开的实施例提供了一种低反射膜、显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决显示基板和显示装置一体黑的显示效果差的问题。所述低反射膜包括第一金属层、第一无机层、第二金属层和第二无机层。所述第一无机层位于所述第一金属层的一侧；所述第一无机层的折射率小于所述第一金属层的折射率。所述第二金属层位于所述第一无机层远离所述第一金属层的一侧；所述第二金属层的折射率大于所述第一无机层的折射率。所述第二无机层位于所述第二金属层远离所述第一无机层的一侧；所述第二无机层的折射率小于所述第二金属层的折射率。上述低反射膜用于遮挡和吸收光线。
本文源自：金融界
作者：情报员
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