CINNO Research产业资讯，EUV(极紫外线)解决方案专业公司EUV Solution在韩国国内首次实现检测EUV用Pellicle（光罩薄膜）的透过率设备的商用化。据了解，最近向主要客户工序交付了相应设备。
根据韩媒Thelec报道，根据12月23日业界消息，EUV Solution首次将EUV用Pellicle检测设备“EPTR”安装在客户工艺上，这是该设备首次实现韩国商业化。
EUV用Pellicle是一种超薄薄膜形态的消耗性材料，在EUV曝光工艺中保护光刻胶免受灰尘侵害。EUV与现有工艺中利用的氟化氩(ArF)相比，波长的长度缩短14分之一左右，可实现更精细的电路，但存在光源损耗大的缺点。因此，业内人士分析，如果要实现EUV用Pellicle不影响工艺良品率，透过率至少要超过90%。
检验EUV用Pellicle的透过率的设备是EUV Solution的EPTR。EPTR利用EUV波长，以超高速测量直接EUV Pellicle的透过度和反射度等。现有的EUV用Pellicle开发厂商为了进行这种分析，必须委托海外公司或韩国国内的研究机构。公司内部一直利用ArF等其他光源进行间接的测量。
去年第四季度，EUV Solution开发出了EPTR设备。之后与多家客户进行了演示测试，最近成功将产品交付给一家客户。据悉，该设备已在客户公司完成安装，将从本月底开始正式投入使用。
EUV Solution副社长李东根表示：“EUV用的Pellicle透过率直接影响工程良率，因此准确测量透过率的过程变得越来越重要。采用EPTR的客户可以更加顺利地进行Pellicle的开发和测量。在产品出库时，就可以直接注明规格信息了。“
EUV Solution是由三星电子半导体事业部出身的金炳国代表于2018年1月设立的创业公司。以EUV技术相关的专业人才为基础，开发EUV用Blank Mask、Pellicle、Mask等各个领域的设备。今年中旬，公司成功完成了评价EUV光刻胶性能的设备“Emille”的测试。
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