制造光刻机有多难？华为的芯片之痛，或许是中国半导体腾飞的契机

国产芯片制造能力不足，造成了如今华为的“芯片之痛”。

那么，制造一台光刻机到底有多难？

可以说从上到下、从里到外都需要全世界的尖端技术，而荷兰企业ASML能够成为制造光刻机的垄断企业，既可以说是时运所及，也可以说是技术积累的结果。即便是芯片大国美国，想要在短期内独立制造出顶级芯片，也几乎是不可能的。

光刻机的核心部件是光源和透镜。

而当前给EUV（极紫外光刻）供货的，只能是美国光源和蔡司镜头。

如今的光刻机，实际上是全产业链深度参与的行业，只靠花钱投资，是无法突破技术壁垒的，如果我们想要研发制造适应当前需求的光刻机，在光源、透镜、晶圆3种产业上也必须实现技术突破，赶超世界顶端水平才行。

但是，即便是我们兴师动众，把光源、透镜、晶圆3种产业搞得如火如荼，想要在短短数年间制造光刻机，也几乎是不可能的事情。

美国工程师说：“只是光刻机里面一个小零件，我就调整了十年。”

荷兰ASML公司曾说：“就算我们公开了图纸，别人不可能造出光刻机。”

据说光刻机有10万个零部件、4万个螺栓、3000根电线和2公里段软管，整机重量高达180吨，集合了多个科技强国的软硬件技术结晶：美国光源、瑞典轴承、法国阀件，还有德国蔡司镜头和三星、台积电的芯片制造技术。

就算是把图纸给你，没有达标甚至顶尖的技术设备，你能造出来光刻机吗？

但实际上，中国也有一家光刻机企业，那就是上海微电子公司，这家公司凭借一己之力，将光刻机技术突破到了22nm，虽然距离5nm甚至是3nm的顶尖水平还差得很远，但毕竟是有，而不是无。

但是更令人尴尬的是，上海微电子成立于2002年，而荷兰ASML前期穷困潦倒，直到2004年才借着“光刻机技术革命”乌鸡变凤凰，凭借最先进的极紫外光刻机，一跃超过了超级巨无霸EUV LLC。

某种程度上，可以说荷兰ASML公司的成功，实际上是因为20年前的“穷”：被国外技术封锁、全球采购零部件，最终造就了如今独一无二，占据80%光刻机市场的巨头企业。

在光刻机行业，荷兰ASML公司就像是一个少年时穷困潦倒的寒门学霸，高考成绩优异、进入清华北大，然后和台积电的林本坚合作，最终开创了属于自己的传奇生涯。

当然，尽管制造光刻机属于“地狱难度”，但是中国人向来都是迎难而上、不畏强敌！

凭借中国人的聪明才智和奉献精神，我们不是造不出光刻机，而是造出来的技术设备满足不了当前制造芯片的需求，而且经济效益太低，导致没有公司愿意花费时间、精力和资金去研究光刻机。

但是华为的“芯片之痛”，给了我们中国人研发光刻机最好的的契机和市场。

虽然说造不如买，但是外国要限制和打击中国半导体行业，而且要置之死地。那么我们只能应对了，只要国家把光刻机产业提升到战略层面，等到中国半导体行业真正地发展起来，不求人、不靠人，到了那个时候，还有外国企业什么事吗？华为的芯片之痛，或许是中国半导体腾飞的契机。

这就像光伏产业，2000年以前还是外国企业的天下，可是等到国家大力投资建设，当作科技战略来搞，尽管中间有许多弯路和浪费，但是20年以后到了如今，光伏产业除了中国，一家能打的都没有！

所以说华为，尽管遭遇挫折也不要感到气馁。

因为制造光刻机或许很难，但是站在华为身后的，还有14亿中国同胞！