北京
国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“气路系统、离子迁移设备和检测方法”的专利，公开号CN122505647A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本申请提供了一种气路系统，涉及气路领域、离子迁移领域、物质检测领域或其他技术领域。该气路系统包括：采样气路，包括采样口、排气口、能够罩设采样口、排气口的帽形件；内循环气路，通过选择性透过膜与采样气路连通；其中，根据帽形件的状态，气路系统配置为具有对应的工作模式，包括以下至少之一：在帽形件处于关闭状态的情况下，帽形件配置为罩设采样口、排气口以隔绝外部气体，采样气路自循环不采样；在帽形件处于开启状态的情况下，样品气体能够从采样口进入采样气路，其中，样品气体的至少部分气体通过选择性透过膜进入内循环气路，其余部分气体通过排气口排出。本申请还提供了一种离子迁移设备和检测方法。
天眼查资料显示，同方威视技术股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析，同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目2852次，财产线索方面有商标信息341条，专利信息4315条，此外企业还拥有行政许可47个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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