日本芯片公司社长：追求技术的独立自主，所有零件都想着自己造

据日经 BP 新闻报道，日本曾经是全球半导体产业的绝对霸主，甚至垄断了整个光刻机市场。

可现在，荷兰 ASML 成为了行业老大。

日本最先进的 Rapidus 公司，都得引进 ASML 的 EUV 光刻机生产先进芯片。

Rapidus 的社长小池淳义在采访中直言，日本半导体失败的主要原因，就是什么都想自己做，太追求技术上的独立自主了。

为了扭转局面，Rapidus 未来还要和美国 IBM、比利时 IMEC 等机构密切合作，试图重新掌握技术主导权。

时间倒回上世纪 90 年代，尼康和佳能是全球光刻机的绝对霸主。

而那时的 ASML，1984 年才从母公司飞利浦独立出来，原因是飞利浦嫌它花钱太多。

在尼康佳能崛起之前，美国的 GCA 和珀金埃尔默是初代光刻机霸主。

他们仗着市场份额高，开始慢待客户，优先满足美国本土企业，海外客户即便订单更早，也只能排队等候。

这种傲慢，给了日本绝佳的发展机会。

日本政府推出了 VLSI 计划，简单说就是拉着尼康、佳能、索尼、东芝等顶尖企业抱团搞半导体，整合全产业链的力量。

尼康和佳能本身就是光学巨头，搭配东京应化、富士的配套材料，很快造出整机光刻机，还附赠工程师服务包，为客户提供技术支持。

那些被美国企业冷落的海外客户，纷纷转向尼康，尼康的市场份额一路飙升。

美国企业因忽视研发，最终将市场拱手让给了日本。

2000 年开始，ASML 异军突起，用浸润式技术抢走了尼康和佳能的市场。

有意思的是，尼康佳能均自主打造光学镜头，大部分零件来自日本本土供应链。

而 ASML 没有独立造镜头的能力，只是方案整合商，大部分零件依靠全球供应链。

可就是这个整合商，成为了当下光刻机尖端技术的唯一玩家。

ASML 的核心本领有两个，对准系统和整合技术。

2002 年，台积电工程师林本坚开发了浸润式技术，即在镜头和光刻胶之间加超纯水，把 193nm 波长折射成 134nm，可打造更先进的芯片。

当时尼康正投入大量资源研发 157nm 波长的技术，直接拒绝了林本坚。

ASML 则抓住机会，和林本坚合作，推出了划时代的浸润式光刻机。

真正让 ASML 通吃市场的，是双工作台的 TWINSCAN 系列。

这款设备能并行处理两枚晶圆，一边曝光一边测量，对准系统性能优异，效率大幅提升。

后续的 EUV 光刻机，也沿用了这套技术体系。

此外，ASML 还和美国合作推进 EUV 技术，供应链汇聚全球顶尖资源。

德国蔡司是它唯一的镜头供应商，除蔡司外，没有企业能造出商用的 EUV 曝光系统。

荷兰半导体观察者马克・海金克表示，ASML 实现 EUV 设备量产后，尼康在 EUV 领域基本没有胜算，其他对手连量产商用都难以做到。