北京
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国家知识产权局信息显示，长沙华屹半导体有限公司申请一项名为“方形基板上PVD沉积方法和装置”的专利，公开号CN121992356A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及方形基板上PVD沉积方法和装置，包括以下步骤：S1、输入基板尺寸并安装配重；S2、计算磁体尺寸并设置磁体，设置旋转速度比率，进行PVD沉积；S3、调整磁体自旋转速度和主旋转速度，对沉积过程进行动态控制；S4、沉积完成后，停止各驱动单元并取出基板。本发明的有益效果是：能够提高靶材利用率和沉积均匀性。
天眼查资料显示，长沙华屹半导体有限公司，成立于2023年，位于长沙市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，长沙华屹半导体有限公司专利信息3条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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