北京
分享至
国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“半导体芯片及其制备方法”的专利，公开号CN122002975A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本公开提供了一种半导体芯片及其制备方法，属于半导体制备技术领域。该半导体芯片，包括：衬底和遮光层；衬底包括生长面和支撑面，生长面和支撑面分别为衬底的相反两面；遮光层位于衬底的支撑面。本公开能够有效提高扫描电子显微镜检测和光刻的准确性。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目42次，专利信息1040条，此外企业还拥有行政许可42个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
