北京
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国家知识产权局信息显示，铠侠股份有限公司申请一项名为“测量装置、测量方法、半导体装置的制造方法及测量程序”的专利，公开号CN121230901A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明提供一种能够减少因光学干扰引起的温度测量误差的测量装置、测量方法、半导体装置的制造方法及测量程序。实施方式的测量装置包含光源、分光器、及计算器。光源以出射具有透过测量对象物的波长的测量光的方式构成。分光器以测量测量光从测量对象物反射的光的分光光谱波形的方式构成。计算器执行测量处理。计算器构成为在测量处理中，执行：执行分光光谱波形的傅里叶变换；从通过傅里叶变换获得的波形提取波形；计算所提取的波形的振幅峰值位置上的相位角；基于相位角的变化量来计算测量对象物的温度变化量或厚度变化量；及通过对基准温度加上温度变化量来计算测量对象物的温度，或通过对基准厚度加上厚度变化量来计算测量对象物的厚度。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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