在制造领域,有一种关键材料虽不如光刻机广为人知,却堪称产业“命门”。
日常接触的手机屏幕、心脏支架,再到航天器精密部件……背后核心的制造都离不开它——光刻胶。这种材料像是纳米刻刀,通过光化学反应将电路图案精准转移到硅片上,是实现微米、纳米级精度的关键,在制造成本中占比约12%,缺了它根本造不出半导体。
而在全球半导体材料供应里,日企对光刻胶近乎垄断,整体产能占比超90%,7nm以下先进制程的EUV光刻胶更是100%由其供应,东京应化、信越化学等日企靠核心技术长期主导市场。
一旦日本断供,全球产业三个月内就会全面停滞,各行各业都将面临“无货可用”的困境,我国也不例外。
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此言非虚。2019年日本停止对韩提供光刻胶,致使韩国半导体生产线几近停摆,三星少主李在镕甚至紧急飞赴东京请求供货。日前,日本经济产业省(METI)还出台出口管制,将42家中企列入管控清单,光刻胶亦被纳入限制范围。
究竟是哪些因素制约了其他国家在光刻胶领域实现规模化生产?为何至今没有国家能成功仿制?一旦我国遭遇断供局面,又该如何应对?
答案或许藏在日本对光刻胶生产的极致把控中。资料显示,东京湾某隐蔽地下,坐落着一座堪称全球洁净度之最的化工厂。在此,日企可将材料纯度提升至惊人的99.999999999%,其工艺精细程度令人惊叹。
依托这一技术,日制光刻胶宛如被施了魔法。当它被均匀涂覆于硅片表面时,厚度比发丝细十万倍有余,误差控制更达到了极高精度。
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令人瞩目的是,日本在光刻胶领域积累了超2万项专利,同时通过设置36重技术屏障,构建起一道难以逾越的技术防线。
凭借在光刻胶技术领域的长期钻研与突破,日本逐渐掌控了全球70%至90%的市场份额,其性能优异且技术细节高度保密,令他国难以追赶。我国光刻胶长期依赖进口,同样面临日本的潜在风险。
面对此困境,并未被动应对。近年来,不断钻研光刻胶技术并在该领域实现重大进展。据悉,自主研发的T150A光刻胶顺利通过半导体制造的严苛测试,达成了从配方研发到生产制造的全流程自主可控。
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该光刻胶性能已可比肩国际顶尖企业的KrF系列,极限分辨率达120nm精细水准,超越诸多国外同类,且目前已实现了小批量供应,不仅得以突破日本封锁,更为半导体产业链安全与自主可控筑牢根基。
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尽管日本当下在高端材料领域仍具显著优势,但已成功打开突破口,呈现出强劲的追赶态势。据零和财经,截至9月26日,东材科技、久日新材等20家光刻胶相关企业年内平均涨幅均超60%,联合化学年内涨幅更是超过468%
日本业内观察到,我们正依托“集体智慧”加速前行,仅研究机构就已掌握128种陶瓷材料配方,可快速筛选出成本最具竞争力的产品冲击市场。日企如今担忧的,不仅是中方在短期内实现追赶,更忧虑其以极低成本优势,将他们的高利润产业拖入价格战的困境。
而在材料领域的这一突破,也为全球产业链竞争带来了深刻启示:其一,哪怕微小零部件断供,都可能触发产业链危机;其二,长期投入资源与人才,定能突破技术壁垒。
这种产业竞争的逻辑,其实在历史中早有印证。如同日本昔日以低价钢铁重塑美国钢铁产业格局,当下于新材料等高端制造领域的崛起,或许正昭示着全球产业链格局的再度重构。
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