北京
金融界2025年7月12日消息，国家知识产权局信息显示，上海微世半导体有限公司取得一项名为“一种立式化学气相沉积炉的上料装置”的专利，授权公告号CN223087905U，申请日期为2024年09月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种立式化学气相沉积炉的上料装置，所述沉积炉包括立式炉管、设于炉管下方的可升降炉门、直接或间接固定于炉门上方的晶舟组件，所述上料装置包括设置有至少一个晶圆输送盒储位的暂存区，以及用于向晶舟组件和暂存区的晶圆运输盒内取放晶圆的晶圆叉手组件，所述晶圆叉手组件包括受转动执行机构驱动转动的转台，所述转台上设置有独立叉手、由至少两个叉手构成的叉手组、驱动所述独立叉手进行间隙性伸缩的第一执行机构和驱动所述叉手组进行间隙性伸缩的第二执行机构；当所述独立叉手和叉手组同时伸出时，所述独立叉手和叉手组的叉手上下层叠设置，且独立叉手位于最上方或最下方。
天眼查资料显示，上海微世半导体有限公司，成立于2010年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海微世半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息65条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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