辽宁
初夏五月，盛会将至。2026年5月22日—24日，2026年微纳器件与系统应用技术大会暨第十九届中国微纳电子技术交流与学术研讨会将在滨海城市大连隆重召开。鹏城半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“鹏城半导体”）将出席本次大会，与行业专家学者及产业链上下游伙伴共探微纳器件、先进封装、半导体装备国产化新机遇。大会期间，鹏城半导体技术团队全程驻场，欢迎莅临交流！
鹏城半导体由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建，公司致力于微纳技术与高端精密制造的深度融合，具体应用领域涵盖半导体和泛半导体材料、工艺、装备的研发设计、生产制造、工艺技术服务及装备的升级改造，可为用户提供工艺研发和打样，可为生产企业提供生产型设备，可为科学研究提供科研设备，构建起“产学研”融合的产业链体系。
本次展会上，鹏城半导体将携微纳领域代表性核心产品精彩亮相。
- 超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）
在超洁净环境下，采用纳米原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。
- 生产型TGV/TSV/TMV高真空磁控溅射镀膜机
该设备用于玻璃基板陶瓷基板高密度通孔盲孔金属种子层镀膜深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升提供支撑。
- 生产型高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机
该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射离子辅助镀膜反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。
- 生产型高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机
该设备采用磁控溅射离子辅助反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。
- 科研型高真空磁控溅射镀膜机
该设备是科研类及中试类高真空磁控溅射镀膜机，主要用2～12英寸圆形平面磁控溅射靶和小型矩形靶进行溅射镀膜。可制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。可用于TGV/TSV/TMV先进封装的研发，高深径比（≥10:1）深孔金属种子层镀膜
- HFCVD热丝化学气相沉积设备
设备主要用于微米晶纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。
- 高真空电子束蒸发镀膜设备
设备是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料
- PECVD等离子体增强化学气相沉积设备
设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅氧化硅薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。双频技术，采用13.56MHZ射频电源和400KHZ中频电源。射频电源用于控制等离子体的通量；中频电源用于控制等离子体的能量。
5月22–24日，大连相约，与鹏城半导体共赴2026年微纳器件与系统应用技术大会！
会议地图
大连香洲花园酒店（大连市西岗区长春路171号）
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