北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于超薄图案晶片的激光衍射光学显微术”的专利，公开号CN122029486A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，提供了光学显微镜，光学显微镜用于在半导体衬底上的超薄光致抗蚀剂层中在电子束检查系统中检查图案或者执行晶片对准。光学显微镜可以包括激光器，激光器被配置为在显微镜物镜中产生衍射光。光学显微镜可以能够生成超薄光致抗蚀剂中的潜像图案的光学图像。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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