盛美上海申请清洗装置相关专利，清洗装置连通管路助罩体浸没以实现清洗

来源：新浪证券-红岸工作室

5月10日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种清洗装置和清洗方法”的专利。申请公布号为CN121988564A，申请号为CN202411572087.X，申请公布日期为2026年5月8日，申请日期为2024年11月5日，发明人王晖、邓新平、张峰榕，专利代理机构上海专利商标事务所有限公司，专利代理师杜娟，分类号B08B3/08、B08B3/02、B08B13/00。

专利摘要显示，本申请涉及半导体器件制造领域，具体为一种清洗装置和清洗方法。清洗装置用于清洗喷嘴和设于喷嘴外周的罩体，包括：清洗槽，用于贮存清洗液；第一进液管路，设置在所述清洗槽上，用于向所述清洗槽通入清洗液；至少一个连通管路，用于连通罩体内位于所述清洗液的液位上方的空间与所述清洗槽的外部，以将罩体内位于液位上方的空气排至所述清洗槽的外部。本申请在罩体从开始接触清洗液到下降至预设位置的过程中，通过连通管路将罩体内位于清洗液的液位上方的空气排至清洗槽的外部，使得罩体能够下降至预设位置，罩体位于预设位置时，罩体尽可能多的浸泡在清洗液中，从而实现清洗罩体与喷嘴。

天眼查数据显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2005年5月17日，法定代表人HUI WANG，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本48016.4789万人民币，实缴资本48016.4789万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目179次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息700条，拥有行政许可32个。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696240.42025-11-19CN121149062A2025-12-16李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱2一种传感器校准装置及基板清洗机发明专利公布CN202511565215.22025-10-30CN121540106A2026-02-17陈远、赵运翔、何西登3基板处理装置发明专利授权CN202511376375.22025-09-25CN120878605B2026-04-17苏政、贾社娜、邓新平4处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植5供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平6排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成7单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源8薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊9基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海10密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民11双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源12晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕13化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕14炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海15进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉16基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚17晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕18一种清洗装置和清洗方法发明专利公布CN202411572087.X2024-11-05CN121988564A2026-05-08王晖、邓新平、张峰榕19热板降温装置及基板热处理设备发明专利公布CN202411558781.62024-11-01CN121995700A2026-05-08张剑松、王文军、王晖、李康植20基板热处理装置及涂覆设备发明专利公布CN202411516794.72024-10-28CN121969060A2026-05-01耿其健、刘畅、王杰、仰庶、张晓燕、陈添喆、王晖21供液装置和基板处理设备发明专利公布CN202411490004.22024-10-23CN121925057A2026-04-24马泽贤、刘凯、初振明、张晓燕22电镀设备发明专利公布CN202411466281.X2024-10-18CN121896705A2026-04-21王晖、王坚、杨宏超、刁建华、肖炎、贾照伟23电场控制元件及电镀装置发明专利公布CN202411396225.32024-09-30CN121760043A2026-03-31杨宏超、贾照伟、王坚、王晖、刁建华、吴勐24基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411383228.32024-09-29CN120033106A2025-05-23王晖、陶晓峰、黄天宇、韩阳、何西登、贾社娜、刘文博、张晓燕、胡海波、刘阳、吴杨25无应力抛光装置及抛光方法发明专利公布CN202411386474.42024-09-29CN121777024A2026-04-03金一诺、王晖、王坚26基板处理设备发明专利公布CN202411366532.72024-09-27CN121772641A2026-03-31吴勐、贾照伟、王坚、王晖27用于方形基板的卡盘发明专利实质审查的生效、公布CN202411358048.X2024-09-26CN121192044A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华28遮蔽排气环及反应腔结构发明专利公布CN202411356693.82024-09-26CN121737675A2026-03-27董智超、张山、陈宇、白晛祐、金京俊、周培垄、王晖29晶圆检测装置发明专利著录事项变更、公布CN202411352377.32024-09-26CN121740133A2026-03-27刘宁、焦欣欣、侯瀚、王俊、吴均、王晖30喷淋头校准装置及方法发明专利公布CN202411362969.32024-09-26CN121732471A2026-03-27谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源、王晖31基板对中装置与基板对中方法发明专利公布CN202411362921.22024-09-26CN121752017A2026-03-27杨小亚、杨宏超、刁建华、王蔚、贾照伟、王坚、王晖32半导体衬底处理装置及处理方法发明专利公布CN202411362992.22024-09-26CN121772639A2026-03-31李亚洲、贾社娜、王俊、方波、林金木、杜旭初、王晖33晶圆洗边方法和装置发明专利公布CN202411362964.02024-09-26CN121772634A2026-03-31戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕34支撑装置及基板退火设备发明专利授权CN202411351739.72024-09-25CN119920747B2025-11-14顾昱、王玉玺、杨宏超、王晖、王坚35基板涂覆设备及涂覆方法发明专利公布CN202411341745.42024-09-24CN121732363A2026-03-27耿其健、刘畅、王杰、仰庶、张晓燕、王尧、吴雷36基板承载片、晶舟及炉管设备发明专利公布CN202411339305.52024-09-24CN121752006A2026-03-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友37晶圆清洗装置及晶圆清洗方法发明专利公布CN202411321721.22024-09-20CN121728996A2026-03-24胡韬、张晓燕、胡海波、李兴38基板处理方法及基板处理装置发明专利公布CN202411320298.42024-09-20CN121729006A2026-03-24周世豪、刘阳、胡海波、张晓燕39电镀设备及电镀方法发明专利公布CN202411303916.42024-09-18CN121700484A2026-03-20吴勐、陶向宇、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖40晶圆边缘清洗装置及方法发明专利公布CN202411305262.92024-09-18CN121729005A2026-03-24庞博、肖登、初振明、张晓燕、王晖41液体稀释装置及液体稀释方法发明专利公布CN202411290600.62024-09-13CN121648771A2026-03-13邱殿涛、徐时座、初振明、张晓燕、王晖42电镀装置发明专利公布CN202411289409.X2024-09-13CN121653800A2026-03-13王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、刁建华、肖炎43基板处理装置发明专利公布CN202411290587.42024-09-13CN121693037A2026-03-17赵利萍、徐园园、刘文博、王文军、张晓燕44基板升降机构及基板处理装置发明专利公布CN202411282607.32024-09-12CN121693034A2026-03-17李亚洲、王俊、贾社娜、王晖45加热机构的工艺参数获取装置和方法发明专利公布CN202411282612.42024-09-12CN121693035A2026-03-17徐磊、张晓燕、王文军46加热机构及基板处理装置发明专利公布CN202411281509.82024-09-12CN121693032A2026-03-17刘鼎新、樊昌昊、何西登、朱星47基片干燥方法和装置发明专利公布CN202411281496.42024-09-12CN121693031A2026-03-17徐园园、赵利萍48基板干燥装置及基板干燥方法发明专利公布CN202411239194.02024-09-04CN121665951A2026-03-13陶泽魏、胡海波、刘阳、张晓燕49晶圆检测方法和装置发明专利公布CN202411217130.02024-08-30CN121632974A2026-03-10陈浩天、任正博、王晖、石轶、金一诺50清洗方法及清洗设备发明专利公布CN202411217003.02024-08-30CN121649163A2026-03-13贾照伟、陆陈华、麻森朋、杨宏超、王坚、王晖

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