北京
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国家知识产权局信息显示，安赛乐米塔尔公司申请一项名为“真空沉积设备及用于涂覆基材的过程”的专利，公开号CN121472784A，申请日期为2017年7月。
专利摘要显示，本发明涉及一种真空沉积设备和一种用于涂覆基材的过程，该设备用于在行进的基材上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层，该设备包括真空沉积腔室和用于使基材行进穿过腔室的器件，其中，设备还包括：蒸气喷射涂覆器，蒸发坩埚，该蒸发坩埚适于向蒸气喷射涂覆器供给包含主元素和至少一种附加元素的蒸气，再充料炉，该再充料炉适于向蒸发坩埚供给熔融态的主元素并且能够保持蒸发坩埚中恒定的液位，供给单元，供给单元适于供给固态的至少一种附加元素，并且适于向蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的至少一种附加元素。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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