北京
国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种排风系统的控制方法及排风系统”的专利，公开号CN121411519A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种排风系统的控制方法及排风系统。该排风系统包括产生风量的一个厂务端和消耗风量的多个机台端，其控制方法包括以下步骤：获取厂务端的第一排风管中的第一气压数据，以及多个机台端的第二排风管中的第二气压数据，根据多个机台端的第二排风管中的第二气压数据，确定第一目标值，并结合第一气压数据，对厂务端的实际产生风量进行第一PID控制，根据各机台端的第二目标值，以及对应第二排风管中的第二气压数据，对控制各机台端的消耗风量的阀门开度进行第二PID控制。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息453条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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