北京
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国家知识产权局信息显示，FEI公司申请一项名为“不均匀的D形聚焦离子束”的专利，公开号CN 121054454 A，申请日期为2025年5月。专利摘要显示，本公开涉及不均匀的D形聚焦离子束。方法包括：利用带电粒子束源产生带电粒子束并沿带电粒子束柱的束轴将该带电粒子束引导至目标；引导该带电粒子束通过被定位成相对于该束轴偏移的细长孔；以及将该束聚焦到该目标以产生该束的非对称强度横截面，其中该横截面基于偏移的细长孔在该目标处具有尖锐强度边缘。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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