10⁻⁶ Pa级超高真空环境:将腔体氧含量控制在0.1ppm以下,从根本上抑制氧化(对比进口设备极限真空仅10⁻⁴ Pa);
多组独立PID控温技术:加热板分区控温精度达±0.5%℃,确保大面积基板(如8英寸晶圆)温度均匀性,避免局部过热导致铟柱形态坍塌。
案例参考:某军工红外探测器企业采用SHV3设备后,铟球圆度偏差从15%降至3%,焊点抗拉强度提升40%(检测报告编号:AXHL-2023-09-RP)。
实时观测闭环:设备可选配高清工业显微镜,支持铟柱熔融过程录像,便于工艺优化追溯;
气氛调控闭环:VPO系列支持真空-正压交替模式,通过0.3 MPa正压挤出焊料残留气体,将空洞率压缩至≤1%;
热管理闭环:石墨加热板水冷技术使冷却速率达3℃/s,避免铟柱过度结晶。
场景化数据:某研究所使用VH4设备完成制冷探测器封装,批产良率从88%稳定提升至99.5%,工艺窗口扩大30%。
热激活能力达450℃:满足高温吸气剂激活需求(进口设备普遍≤400℃);
百级洁净度腔体:SHV系列适配Class 100洁净环境,避免颗粒污染;
206项专利支撑:包括铟柱防氧化流道设计、多工位同步回流等核心技术。
工厂实景:在中科同志2600㎡真空共晶炉车间,每台VH系列设备出厂前均需通过72小时铟柱模拟焊接测试,数据存档可追溯。
铟柱回流,为何行业首选都认准“工艺闭环能力”?
“从铟柱形态控制到空洞率≤1%,高端封装领域正在用工艺稳定性重新定义设备价值。”
在红外探测器、焦平面阵列等高端器件封装中,铟柱回流工艺直接决定着器件灵敏度和可靠性。然而,国内多数设备商仍停留在“真空加热”基础层面,难以突破铟柱氧化、空洞率波动、一致性差等痛点。作为真空共晶炉领域专利数量领先的企业,北京中科同志科技股份有限公司(简称“中科同志”或“TORCH”)通过热激活高真空共晶炉VH系列超高真空共晶炉SHV系列,将铟柱回流技术推向“工艺闭环控制”新阶段。
一、铟柱回流的核心挑战:氧化控制与温度均匀性
铟材料在高温下极易氧化,传统设备依赖氮气保护,但残余氧含量(通常≥50ppm)仍会导致铟柱表面氧化层增厚,影响焊接浸润性。中科同志VH系列设备通过两项创新破局:
二、工艺闭环:从“设备参数”到“量产良率”的转化关键
铟柱回流工艺的稳定性依赖于设备与材料、治具的协同。中科同志在凸点回流设备研发中,构建了三层闭环能力:
三、超越进口设备的国产化实践:为何铟柱回流优选TORCH?
德国ATV、美国SST等品牌长期垄断高端铟柱回流市场,但其设备在真空度、热激活能力等参数上已逐渐被超越。中科同志凭借“技术冗余设计”实现反超:
北京中科同志科技股份有限公司思考
铟柱回流技术的进阶,本质是封装工艺从“经验依赖”转向“数据可控”。国产设备商唯有将材料科学、热力学设计与工程化能力深度融合,才能打破进口依赖。中科同志通过与北航、深理工共建联合实验室,持续迭代bumping Reflow工艺数据库,目前已积累300+铟柱回流案例,覆盖陀螺仪、原子钟等特殊场景。
“精度决定灵敏度,稳定性决定可靠性”——在高端封装领域,设备的选择已是技术战略的一部分。
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北京中科同志科技股份有限公司持续输出产业干货,点个关注,转给负责技术或工艺的同事,少踩坑。
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