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金融界2025年7月9日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“EUV利用系统和方法”的专利，公开号CN120283200A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，一种EUV利用系统，包括辐射源，所述辐射源包括驱动激光器，驱动激光器被配置成生成用于辐照燃料且由此生成极紫外辐射的驱动激光辐射。所述EUV利用系统包括EUV利用设备，所述EUV利用设备被配置成接收被引导通过位于所述辐射源与所述EUV利用设备之间的光学孔的极紫外辐射。所述EUV利用设备包括辐射遮蔽件，所述辐射遮蔽件被配置成阻挡所述驱动激光辐射的传播通过所述光学孔的至少一部分。
本文源自：金融界
作者：情报员
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