北京
金融界2025年6月12日消息，国家知识产权局信息显示，武汉长进光子技术股份有限公司申请一项名为“一种高模式不稳定阈值光纤及其制备方法”的专利，公开号CN120122272A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供一种高模式不稳定阈值光纤及其制备方法，上述高模式不稳定阈值光纤通过将位于第一纤芯部与包层之间的第二纤芯部内任意一点的折射率沿径向由内向外呈类反比例函数分布，以使高模式不稳定阈值光纤的基模有效折射率与高阶模有效折射率的相对差值增大，从而使高模式不稳定阈值光纤的基模模式分布与波导结构完美重合，且使高模式不稳定阈值光纤的高阶模式分布处于波导折射率低点，进而使高模式不稳定阈值光纤的基模得到有效增益，高阶模增益被抑制，最终使高模式不稳定阈值光纤的模式不稳定阈值得到有效提高。同时，该波导结构模式不稳定阈值对光纤尺寸、弯曲半径以及吸收容忍性更强，为光纤的使用场景提供了更多的可能性。
天眼查资料显示，武汉长进光子技术股份有限公司，成立于2012年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本7025.25万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉长进光子技术股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息66条，此外企业还拥有行政许可9个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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