彻底反水了！拜登做梦都没想到，ASML突然宣布：继续出货高端设备

目前，美日荷“三方协议”的条款已经逐步实施。美国一直怀着对中国科技崛起的不满已经有一段时间了，试图借助自身在国际舞台上的统治地位，来扼杀中国科技进步的道路。因此，在半导体芯片领域，美国紧紧掐住了中国光刻机的进口通道。

日本一贯听话，积极响应美国的号召，宣布对23种与芯片制造相关的设备实行出口管制。从清洗到热处理、到光刻和蚀刻设备，全都被条例规定禁止向中国出口，这几乎覆盖了整条光刻机的产业链。

不久后，荷兰也迅速跟进，颁布了自己的出口限制措施。荷兰成为最后一个出台出口管制政策的国家，自从9月1日起，正式限制高端DUV光刻机的出口。看似美国构筑的封锁网即将封住，然而却出现了令人始料不及的情节。

在这关键时刻，荷兰总统和他的团队意外辞职，令人大跌眼镜。紧接着，荷兰本土的ASML公司也发出令人瞠目结舌的宣言，宣布继续向中国出售高端设备。这一决定着实令拜登政府大吃一惊，仿佛“三方协议”成了一纸废约，荷兰看似完全背弃了原有承诺。

然而实际上，荷兰此前一直摇摆不定。起初，在协议初步制定阶段，面对巨大压力，荷兰率先表态称，他们将对先进的DUV光刻机型号实施出口管制，但较老的1980Di型号则可继续出口。

考虑到中国是拥有全世界最大的半导体进口需求量的国家之一，中国的芯片制造企业急需大量光刻机来生产芯片。因此，ASML在中国市场的表现，对其全球市场份额和盈利能力具有直接影响。为了维持与中国密切的合作关系，在日本响应封锁之前，ASML就一直在劝说美国不要中断光刻机的供应，强调良好的商业合作至关重要。

然而出人意料的是，今年6月底，荷兰也宣布正式加入了美国的协议签署行列。尽管EUV已经受到严格限制，但DUV的需求仍然巨大，因此基本出货量得以维持。荷兰已经开始实施的出口管制，这似乎将堵死中国进口高端光刻机的最后一条路。

面对这一情况，中国没有再坚持要求对方改变立场，而是迅速表明，我们将加速科技创新的步伐，不再依赖外国光刻机，自主研发国产光刻机的日子已是指日可待。并且从此开始，中国的光刻机行业开始喜报频传，似乎在无声地佐证自己的实力。

这一局面直接让ASML感到手足无措，他们采取了一个令全世界震惊的举措——无视美国制定的封锁协议，向相关部门申请出口许可证，竟然成功获得批准。这一意外转折让人大跌眼镜，似乎预示着“三方协议”已成空谈，拜登的小算盘注定要落空。

ASML公司近日宣布，荷兰已经批准了他们截至9月1日所需的出口许可，因此他们得以在本年之内，继续向中国供应TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的高端DUV光刻机系统。

简言之，ASML在2023年将不受出口管制的影响，只有EUV光刻机会受到限制，其他所有设备都可以顺畅运往中国。预计ASML将全力履行承诺，加速与中国的合作，以满足日益增长的需求。虽然中国正积极推动国产芯片研发，但短期内仍需要依赖外国的高精密技术，因此大陆客户为了确保订单得到满足，必定会尽早提交。

这一突如其来的好消息将有望推动ASML今年的业绩创下新高。原本人们以为荷兰对DUV光刻机实施出口管制会对ASML下半年的营收造成负面影响，但如今情况已经完全不同，大陆的订单预计将持续激增。

但遗憾的是，预计在2023年之后，荷兰的许可证将不再轻松批准。目前的繁荣只能看作是中国自主研发光刻机之前的铺垫。这也更加凸显了自主科技创新的重要性。

光刻机技术并非不可逾越的难题，中国在这领域已经取得引人注目的进展。一国内企业还成功研发了SAQP技术，可实现7纳米工艺，甚至5纳米工艺，并在成本方面尚有未完全发掘的潜力。此外，中国科学院也最近宣布，他们已经攻克了3纳米光子芯片技术，计划在2023年启动首条生产线。届时，中国将成为全球首个大规模量产光子芯片的国家。

中国一直以来以“中国速度”自豪，科技突破频频涌现，令国人为之骄傲。然而，科技发展不是孤立的，中国要让国产光刻机发生质的飞跃，国际上的技术支持势必不可或缺。但是在美国的铁腕制裁下，中国要近乎独自填补技术短板，中国半导体产业面临着巨大的压力，研发之路必将充满挑战。

为了破解这一困局，中国在技术研发、人才培养和政策引导方面的持续投入和不断创新仍然是必要的。只有在半导体制造设备的材料、工艺和制造技术方面不断突破，才能真正弥补短板，生产出先进的光刻机产品，才能真正庆祝科技的胜利。