重庆
美国已经联合荷兰以及日本，签署了针对中国的出口管制协议，而荷兰政府最近也出台了新的出口管制条例。虽然日本和荷兰都不会明说这个新的出口管制是针对中国，但很显然未来要从荷兰、日本以及美国进口更多先进半导体设备和原料，对于国内的企业来说，是一件更加困难的事情了。
荷兰政府在2月8日发布了有关即将对半导体设备出口进行限制的很多信息，这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和部分浸没式光刻设备。考虑到目前荷兰在相关领域最负盛名的就是光刻机制造商ASML，所以很多人也在看ASML接下来会怎么应对这一出口管制条例，要知道ASML一直以来，都反对实施新的出口管控条例，并且希望将光刻机继续出口到中国。
ASML已经在官网发布了一条《关于额外出口管制的声明》，在声明中ASML强调，荷兰政府新出台的额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，而只涉及所谓的“最先进”设备。 所以ASML打算在这个“最先进”的说法上找一些适合自己东西，ASML表示还没收到有关“最先进”的确切定义息，但ASML认为这应该是“关键浸没式光刻设备”。所以ASML认为如果是出口一些不太先进的浸没式光刻工具，那应该是没问题的。
对于荷兰的出口管控，业内一致认为是荷兰政府将限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制DUV光刻机的出口，主要是限制先进制程芯片的制造。而目前最先进的DUV光刻机，其实就是属于浸没式光刻设备。目前业界比较流行的DUV光刻机属于193nm光刻机（浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，也能用于成熟工艺的制造，比如说45nm芯片。
而现在ASML的说明，其实说明了荷兰政府的确也限制了高端DUV光刻机出口到中国的可能，当然ASML也希望自己不那么先进的浸没式光刻机可以出口到中国。目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三种型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。前两者都被视作先进光刻机，应该是无法出口到中国，不过最后型号为NXT：1980Di的光刻机则被视作可以出口到中国。
不过NXT：1980Di的确不够先进，分辨率只能做到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。这个光刻机经过多重曝光后，其实也能制造7nm的芯片，但是多重曝光步骤更为复杂，成本更高，而且会降低良率，这无疑提升了技术研发的难度。所以这款光刻机还是用于成熟工艺的芯片比较多，前几年长江存储和和华虹就购买了这款光刻机。
去年ASML曾表示除了EUV光刻机，其他光刻机都能出口到国内，但是现在连DUV先进的光刻机都无法再卖给中国了。尽管国内厂商还能购买NXT:1980Di，但是要想生产先进芯片的话，难度的确太大，而且成本提升加上良率太低，用这光刻机来生产7nm芯片，基本上无法和市场上其他厂商竞争。所以未来国内研发生产成熟工艺的芯片问题不大，但要涉及到先进工艺的芯片，恐怕希望就不是太大了。
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