北京
国家知识产权局信息显示，武汉国创科光电装备有限公司申请一项名为“一种全方位光角度探测单元、探测器及其成型方法”的专利，公开号CN122662335A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请涉及一种全方位光角度探测单元、探测器及其成型方法，包括：探测柱；N型半导体层，其包括多个N型半导体纳米管，多个N型半导体纳米管紧密排列于探测柱的周向侧面以形成N型半导体层；P型半导体层，其包裹于N型半导体层；多个顶电极，多个顶电极分布于P型半导体层的周向侧面，多个顶电极均通过N型半导体层和P型半导体层与探测柱分别形成独立的电流回路；其中，光照射于N型半导体层，与N型半导体层受光处越近的顶电极的电流强度越大，根据不同顶电极处的电流信息从而得知光照角度和光强。本申请通过在探测柱的周向侧面布置N型半导体层、P型半导体层和多个顶电极，实现了光角度的全方位探测，大幅扩展了光的检测范围。
天眼查资料显示，武汉国创科光电装备有限公司，成立于2020年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本7993.5461万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉国创科光电装备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目30次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息259条，此外企业还拥有行政许可13个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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