北京
国家知识产权局信息显示，正泰新能科技股份有限公司申请一项名为“一种复合薄膜及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122648867A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明提供了一种复合薄膜及其制备方法和应用，所述制备方法包括以下步骤：(1)使用复合锡靶材进行第一等离子体沉积处理，得到第一锡氧化物层；(2)使用复合锡靶材，在第一锡氧化物层表面进行第二等离子体沉积处理形成第二锡氧化物层，得到所述复合薄膜；其中，所述复合锡靶材包括氧化亚锡和氧化锡；所述第一等离子体沉积处理的氧分压<所述第二等离子体沉积处理的氧分压。本发明采用等离子体沉积制备电子传输层，通过控制靶材中的氧含量以及沉积过程中的氧分压，引入微量的氧空位来激活界面载流子并促进电子提取，提高复合电子传输层的光电性能和稳定性。
天眼查资料显示，正泰新能科技股份有限公司，成立于2015年，位于嘉兴市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本264526.699万人民币。通过天眼查大数据分析，正泰新能科技股份有限公司共对外投资了15家企业，参与招投标项目611次，财产线索方面有商标信息77条，专利信息1096条，此外企业还拥有行政许可26个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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