北京
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国家知识产权局信息显示，恩特格里斯公司申请一项名为“具有吹扫流引导的光刻衬底”的专利，公开号CN122623162A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，一种光刻衬底容器包含经配置以接收吹扫气体的入口、挡板、光刻衬底容纳空间及用于所述吹扫气体的出口。所述挡板可影响在所述入口处接收的吹扫气体流以控制所述吹扫气体流通过所述光刻衬底容纳空间的流率、压力差及类似者。所述挡板可设置在所述入口与所述光刻衬底容纳空间之间。所述挡板可包含于所述光刻衬底容器的一或多个部分上或包含于经配置以附接到所述光刻衬底容器的嵌件上。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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