北京
国家知识产权局信息显示，武汉驿天诺科技有限公司申请一项名为“一种基于多源图像融合的硅光芯片表面缺陷识别方法”的专利，公开号CN122573972A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明属于半导体全自动光学检测技术领域，涉及一种基于多源图像融合的硅光芯片表面缺陷识别方法，包括：配准对齐明暗场图像像素矩阵，根据两图像方向梯度场点栅与模长乘积比值确定衬度发散度数据，比对该数据与负向绝对值阈值‑0.71及零向阈值0.23划分边缘伪影区与缺陷潜在响应区，据此更新通道特征权重并由网络提取特征，输出复合图像数据流，本发明根据衬度发散度数据调制通道权重，在边缘伪影区乘以缩减因子0.15并关闭跨通道特征求和，阻断异质梯度信号线性求和时的特征湮灭，在前置级联早期隔离互补噪声，提升缺陷图像分割的边缘语义辨识度。
天眼查资料显示，武汉驿天诺科技有限公司，成立于2009年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本1574.945万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉驿天诺科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息47条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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