北京
国家知识产权局信息显示，深圳市其域创新科技有限公司申请一项名为“一种高斯泼溅模型可逆水印生成方法及装置”的专利，公开号CN122023101A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本申请提供了一种高斯泼溅模型可逆水印生成方法及装置，涉及水印算法技术领域，该方法包括：选取目标印章模型；从待保护高斯泼溅模型中选取参考高斯基元，基于参考高斯基元的协方差确定基准位置；以基准位置为中心选取邻域内的多个最近邻高斯基元构建局部基元集合；对局部基元集合进行特征解耦获得多个几何外观特征，对多个几何外观特征添加非线性扰动，获得扰动几何外观特征；利用扰动几何外观特征对目标印章模型进行变换处理，将变换后的目标印章模型嵌入待保护高斯泼溅模型，以获得携带显性水印印章的高斯泼溅模型。通过采用上述高斯泼溅模型可逆水印生成方法及装置，解决了在移除水印后无法恢复3DGS模型精度及水印生成复杂度高的问题。
天眼查资料显示，深圳市其域创新科技有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本651.2398万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市其域创新科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目46次，财产线索方面有商标信息90条，专利信息140条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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