北京
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long x北京，HH，PXW各一台国产ArFi浸没式DUV订单（今年至少三台），相关供应链公司已接到宇量昇大订单
王阳元、赵晋荣、陈南翔、魏少军等中国半导体产业领军人在科技导报上面发布了《构建自主可控的集成电路产业体系》报告，指出上海微国产28nm浸没式光刻机也已经进入工艺测试阶段。
1）此前，美国的限制主要集中在EUV和部分高端浸没式DUV型号（如ASML的2050i/2100i），这类设备通过多重曝光最高能够支持7nm制程芯片的制造。而新法案拟将范围扩大至所有浸没式DUV设备，包括ASML的1980i系列。
2）MATCH法案明确禁止对上述企业已购设备提供任何维修、维护和技术支持。因此，晶圆厂光刻相关硬件维保、存量替换需求受限。
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