陷伊朗导弹打击半径！三星、SK海力士存储芯片生产危机！

来源：市场资讯

（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，上海光源，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，四川大学，优尼康等单位的专家将作精彩报告

-第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开

4月15日消息，据韩媒报道，美伊以冲突导致卡塔尔天然气设施受损，其天然气副产品氦气供应出现了短缺信号，导致市场担忧这一关键材料将限制全球半导体的生产。然而，除了氦气之外，市场忽略了另一个致命风险。

溴是专业化学品供应商生产半导体级溴化氢气体的原材料，韩国公司在所有DRAM和NAND闪存芯片生产中，离不开这一关键气体。

目前，韩国内存巨头三星和SK海力士合计占到全球DRAM市场约70%的份额，是全球市场的关键供应方，但其97.5%的溴进口来自以色列。全球其他的溴供应商也无多余产能可以替代以色列的空白，这让以色列的供应至关重要。

由于DRAM和NAND是所有现代计算设备的基础，溴供应中断的影响将波及整个消费电子和工业电子产业链，甚至是国防行业。

目前全球其他地区的溴供应商几乎没有多余的产能可以填补以色列的供应空白。这种极度单一的供应结构，使得以色列的产出状况直接决定了全球存储芯片的供应安全。

以色列跨国公司ICL集团是全球溴生产的绝对核心。由于死海的含溴量极高，该公司能够以全球最低的成本完成生产。目前，以色列与约旦两国的供应量合计已占到全球总供应量的三分之二。

风险的核心在于生产设施的高度集中。ICL集团将溴提取与转化的核心综合设施设在死海附近的索多姆地区。这一位置极其敏感，距离此前遭受军事袭击的内盖夫沙漠不到35公里。

该生产基地目前完全处于潜在的打击范围之内。如果地区冲突进一步升级，导致相关生产设施受损或运输通道受阻，全球存储芯片供应链将面临极其严重的连锁反应。

对于极度依赖以色列原材料的韩国存储巨头来说，这种地缘政治引发的断供风险已成为当前最紧迫的挑战。在全球半导体产业链中，这种由于上游原材料高度集中而引发的单点故障风险正变得愈发凸显。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议主题—

展位火热预订中！会场外特设精品展位，现面向优质供应商开放合作，助您精准链接行业核心资源与客群。合作形式多元灵活，包括：企业主题演讲、联合主办、晚宴赞助、广告宣传、茶歇赞助、礼品赞助等多种形式，全面覆盖会议各环节宣传场景。