北京
国家知识产权局信息显示，深圳新宙邦科技股份有限公司申请一项名为“一种低比表面积硅溶胶的制备方法”的专利，公开号CN121849976A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，尤其涉及一种低比表面积硅溶胶的制备方法，包括以下步骤：向以烷氧基硅烷作为硅源制备得到的粗品硅溶胶中加入纯水，在低真空度下搅拌，得到所述低比表面积硅溶胶；加入纯水质量占比为w，真空度为v/MPa，温度为T/℃，搅拌时长为t/h，满足如下关系式：0.02≤300*w*v/(t*logT)≤0.04；其中，加入纯水质量占比w为6‑35％，w＝纯水质量/粗品硅溶胶质量×100％，真空度v为0.005‑0.03MPa，温度T为70‑95℃，搅拌时长t为8‑12h。本发明通过增加后处理过程并控制加入纯水质量占比w、真空度v、温度T和搅拌时长t满足一定的关系，在降低二氧化硅颗粒比表面积的基础上，还可以减少体系的醇含量，从而获得了抛光效率更高、抛光效果更好的硅溶胶。
天眼查资料显示，深圳新宙邦科技股份有限公司，成立于2002年，位于深圳市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本74777.9091万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳新宙邦科技股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目33次，财产线索方面有商标信息214条，专利信息587条，此外企业还拥有行政许可73个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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