北京
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国家知识产权局信息显示，恩维世科斯有限公司申请一项名为“可变梯度厚度涂层”的专利，公开号CN121737629A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，一种涂覆装置，包括样品载体、源、遮蔽掩模和涂覆驱动器。源包括多个靶，诸如第一靶和第二靶。源布置成涂覆容纳在样品载体中的至少一个样品。遮蔽掩模设置在样品载体和源之间的视线中。遮蔽掩模被布置成使得第一靶提供第一涂层贡献。遮蔽掩模被进一步布置成使得第二靶提供第二涂层贡献。第二涂层贡献与第一涂层贡献不同。第一和第二涂层贡献中的至少一个在样品的第一维度上是不均匀的。涂覆驱动器布置成独立地控制第一涂层贡献和第二涂层贡献，使得涂层在第一方向上的厚度梯度是可变的。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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