EUV光刻机，又一里程碑

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全球领先的先进半导体技术研发创新中心imec今日宣布，ASML EXE:5200高数值孔径EUV光刻系统正式上市，这是目前最先进的光刻工具。这一战略里程碑巩固了imec作为业界迈向埃级时代的先锋地位，使其全球合作伙伴生态系统能够以前所未有的方式率先体验下一代芯片微缩技术。高数值孔径EUV系统与一套全面的图形化和计量工具及材料直接集成，将助力imec及其生态系统合作伙伴释放所需的性能，从而引领2纳米以下逻辑和高密度存储技术的研发，推动先进人工智能和高性能计算的快速发展。

imec首席执行官Luc Van den hove表示：“过去两年是高数值孔径（0.55NA）极紫外光刻技术发展的重要篇章。imec与ASML携手合作，在位于荷兰费尔德霍芬的联合高数值孔径极紫外光刻实验室，与业界伙伴共同开拓高数值孔径极紫外光刻技术。随着EXE:5200高数值孔径极紫外光刻系统安装在我们位于比利时鲁汶的300毫米洁净室中，我们旨在将这些高数值孔径极紫外光刻技术推广到与行业相关的规模，并开发下一代高数值孔径极紫外光刻应用案例。该系统拥有无与伦比的分辨率、更优异的套刻性能、高吞吐量，以及可提升工艺稳定性和吞吐量的新型晶圆堆垛机，这将为我们的合作伙伴在加速开发2纳米以下芯片技术方面带来决定性优势。随着行业迈入埃级时代，高数值孔径极紫外光刻将成为一项基石技术，imec很荣幸能够引领这一潮流，并为合作伙伴提供解决方案。”最早、最全面地获取这项技术。”

这一里程碑是imec与ASML五年战略合作伙伴关系的关键组成部分，该合作伙伴关系得到了欧盟（芯片联合计划和IPCEI）、弗拉芒政府和荷兰政府的支持。Luc Van den hove表示：“作为欧盟资助的NanoIC试点生产线的重要组成部分，该工具将在未来几十年里，在巩固欧洲在先进半导体研发领域的领先地位方面发挥关键作用。”

imec洁净室配备ASML EXE:5200高数值孔径EUV光刻系统，巩固了imec作为先进图形化技术最全面开发环境的地位。imec与领先的芯片制造商、设备供应商、材料和光刻胶供应商、掩模公司以及计量专家建立了深入的生态系统合作关系，这将使我们能够加快学习周期，提高工艺稳定性，从而开发和展示用于下一代逻辑和存储器件技术的尖端图形化技术，推动突破性进展，塑造未来几年先进计算和人工智能的发展方向。

ASML首席执行官Christophe Fouquet表示：“IMEC安装EXE:5200标志着我们迈入了埃级光刻时代的重要一步。我们将携手加速高数值孔径EUV光刻技术的扩展，以服务于下一代先进的内存和计算设备。”

imec 预计 EXE:5200 高数值孔径 EUV 光刻系统将于 2026 年第四季度完成全面认证。与此同时，位于费尔德霍芬的 ASML-imec 联合高数值孔径 EUV 光刻实验室将继续运营，确保 imec 及其生态系统合作伙伴的高数值孔径 EUV 研发活动的连续性。

（来源：编译自imec）

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