北京
国家知识产权局信息显示，联光元和（孝感）光学科技有限公司申请一项名为“湿法刻蚀动态调控方法、系统及计算机可读介质”的专利，公开号CN121586452A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及一种湿法刻蚀动态调控方法、系统及计算机可读介质，涉及半导体领域，其包括以下步骤：通过光学检测装置采集刻蚀区域的图像数据；计算刻蚀区域图像与设计图形的相似度；当所述相似度达到或超过预设阈值时，停止刻蚀；当所述相似度低于所述预设阈值时，动态调节刻蚀参数以优化刻蚀过程，其中所述刻蚀参数包括接触角、硅片旋转角度、液体粒径、喷射速度和射流角度中的至少三个参数；通过上述动态调节形成刻蚀过程的闭环反馈控制系统，实现刻蚀过程的精确控制和优化。
天眼查资料显示，联光元和（孝感）光学科技有限公司，成立于2022年，位于孝感市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，联光元和（孝感）光学科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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