北京
国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司取得一项名为“耐辐射性能测试系统”的专利，授权公告号CN223883666U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种耐辐射性能测试系统，包括：辐射室；屏蔽墙设于所述辐射室内，以使所述辐射室形成第一腔室和第二腔室；辐射源设于所述第一腔室；采集单元设于所述第二腔室，用于和被测对象的元器件通信连接，所述采集单元用于采集所述元器件的数据信息，所述元器件位于所述第一腔室；交换机设于所述第二腔室，与所述采集单元通信连接，用于接收所述采集单元发送的数据信息；以及终端设备，设于所述辐射室外，与所述交换机通信连接，用于接收所述交换机发送的数据信息，判断所述元器件的耐辐射性能。本实用新型的耐辐射性能测试系统，采集单元能够同步采集多个元器件的数据信息，实现同步测试多个元器件的耐辐射性能，有利于提升测试效率。
天眼查资料显示，同方威视技术股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析，同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目2773次，财产线索方面有商标信息297条，专利信息4192条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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