北京
国家知识产权局信息显示，钰镍（上海）半导体科技有限公司取得一项名为“一种半导体制造装备的清洁设备”的专利，授权公告号CN223885610U，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种半导体制造装备的清洁设备，涉及清洁设备技术领域，包括外壳，外壳的两侧面均固定连通有取放通道，两个取放通道上均铰接有仓门，控制底座，固定连接于外壳内，控制底座上安装有超声波清洗器，超声波清洗器内设置有清洗液，存放皿，设置于控制底座的上方。本实用新型设计结构合理，它通过设置超声波清洗技术，能够深入半导体表面细微结构内部，极大提高了清洁的彻底性和均匀性，并通过存放皿的笼状设计与通孔，确保了超声波能量的有效传递，同时允许清洗液循环流动，进一步增强了清洁效果，不仅提升了半导体制造装备的清洁效率，还保证了更高的清洁质量，有助于提高最终产品的良品率。
天眼查资料显示，钰镍（上海）半导体科技有限公司，成立于2023年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1060.65万人民币。通过天眼查大数据分析，钰镍（上海）半导体科技有限公司参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息16条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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