北京
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国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“MEMS反射镜阵列模块”的专利，公开号CN121464403A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本发明涉及一种在光刻的投射曝光设备（1）中使用的MEMS反射镜阵列模块（100）。根据本发明的MEMS反射镜阵列模块（100）包括位于重新布线基板（120）上的MEMS反射镜阵列结构（110），以及用于将MEMS反射镜阵列模块（100）固定到更高级组件的接口元件（140），该接口元件位于重新布线基板（120）的远离MEMS反射镜阵列结构（110）的一侧。在所述重新布线基板（120）和所述接口元件（140）之间设置有腔（150），所述腔的壁（151）至少导热地连接到所述重新布线基板（120），并且用于传导传热流体的流体管线（200）沿着所述壁（151）以与其导热接触的方式延伸，所述流体管线的至少一端穿过所述接口元件（140）并从所述MEMS反射镜阵列模块（100）引出。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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