北京
国家知识产权局信息显示，上海御微半导体技术有限公司申请一项名为“一种掩模版检测装置及方法”的专利，公开号CN121411072A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种掩模版检测装置及方法。掩模版检测装置包括掩模版版盒、开盒组件和控制器；掩模版版盒包括底座和盒盖，底座用于承载掩模版，盒盖盖设在底座和掩模版上；开盒组件包括盒体、与盒体连接的运动模组以及固定在盒体上的第一光电传感器、第二光电传感器和激光传感器；第一光电传感器和第二光电传感器沿第一方向排列；控制器用于控制运动模组带动盒体沿第二方向移动直至到达预设开盒位，并获取运动模组的运动信息，还用于根据获取的第一光电传感器输出的第一电信号、第二光电传感器输出和激光传感器输出的掩模版的总厚度信息确定金属框和玻璃基底的厚度信息。本发明可实现对掩模版的玻璃基底厚度的精确测量。
天眼查资料显示，上海御微半导体技术有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本31200万人民币。通过天眼查大数据分析，上海御微半导体技术有限公司参与招投标项目36次，财产线索方面有商标信息45条，专利信息99条，此外企业还拥有行政许可14个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
