北京
国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“去除干法刻蚀含氟残留物的方法”的专利，公开号CN121285280A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请提供了一种去除干法刻蚀含氟残留物的方法，与现有技术相比，本申请去除干法刻蚀含氟残留物的方法，通过采用纯水润湿所述晶圆或者采用含有自由基增强试剂的水润湿所述晶圆，以在晶圆表面生成液体薄膜层，对润湿后的晶圆上照射紫外激光，在紫外激光照射在被润湿后的晶圆上后，液体薄膜层在紫外激光的作用下产生光致自由基，光致自由基用于提高所述含氟残留物的亲水性，进而提高湿法化学工艺对目标晶圆清洗时对含氟残留物的去除效果。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目190次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息928条，此外企业还拥有行政许可56个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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